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연구 분석실을 위한 C4F6 가스 Hexafluoro-1,3-Butadiene 전자적 가스

기본 정보
원래 장소: 중국
브랜드 이름: Accept OEM
인증: ISO9001
모델 번호: 부정
최소 주문 수량: 30KGS
가격: negotiation
포장 세부 사항: 30lb - 926L 실린더 패키지
배달 시간: 6-10 일
공급 능력: 50Ton
상세 정보
CAS 번호 :: 685-63-2 이명 :: 1,1,2,3,4,4-hexafluorbuta-1,3-dieen
해이저드 클래스: 2.3 원산지 :: 후베이
순도 :: 99.95% 애플리케이션 :: 탄화 플루오르 기반 플라즈마 에칭
패키지 :: 이음새가 없는 스틸 실린더 실린더 크기 :: 926L
하이 라이트:

전기 가스

,

순도는 특정 가스를 더합니다


제품 설명

연구 분석실을 위한 C4F6 gas,Hexafluoro-1,3-butadiene

 

기술 :

 

Hexafluoro1,3-부타딘은 유독한 무색인, 향기가 없는, 가연성 액화 압축 가스입니다.

 

고-애스펙트비 콘택 홀 에칭을 위한 식각 기체로서의 C4F6 가스는 좋은 것 일 수 있습니다

PFC 가스에 선택적입니다.

 

그것이 러시아에서 개발한 hexafluoro-1,3-butadiene (C4F6) 드라이 에칭 가스. C4F6은 90 nm 이하 좁선 폭에서 드라이 에칭을 가능하게 합니다. 그것은 점점 디지털 전기 기구와 액정 화면에서 사용되는 시스템 LSI와 고속, 대용량 메모리 장치를 처리해서 그러므로 없어서는 안 됩니다.

 

플루오르 카본 가스는 실리콘 산화막을 처리해서 넓게 사용됩니다. 130 nm의 선 폭에 가공처리해서 현재 사용된 옥타플루오로시클로부탄 (C4F8)와 비교해서, C4F6은 하기 장점을 가집니다 :

 

1.그것으로서의 매우 낮은 환경적인 부하는 대기에 2 이하으로 분해됩니다 (C4F8을 위한 3200년과 비교해서)

 

2.그러므로, 높은 지구 온난화 지수와 과불화탄소에 대한 대안으로서 유용합니다.

 

3.좁고 깊은 요홈 (매우 좁은 라인 선폭에 처리하는데 적합한) 결과를 초래한 고-애스펙트비.

 

4.고선택비 단지 실리콘 산화막의 에칭을 (보증합니다 ; 광반응성 액체, 실리콘 기판에 영향을 미치거나 영화를 질화처리하지 않습니다)

연구 분석실을 위한 C4F6 가스 Hexafluoro-1,3-Butadiene 전자적 가스 0

물리적이고 화학적 특성

출현과 인기 25에 'C와 760 밀리미터 Hg를 가스로 처리하세요.
융해점 : -132.1 'C
비등점 6일부터 7일까지 '760 밀리미터 Hg에 있는 C
증기압 : 20 'C에 있는 25 절대 평방 인치 당 폰드
비중 : -20 'C에 있는 1.553 g/mL
굴절률 : -20 'C에 있는 1.378

 

표준 패키지 INFORMATION-ASIA와 북아메리카

용기 크기 44L 강철 8L 강철
충진 중량(kgs) 45 5
밸브 커넥온 피노이맥은 724를 멸시합니다 설명서는 724를 멸시합니다
실린더 차원 (안에) 9x51 7x19

 

 

애플리케이션 :

1. 그것은 플루오르계 에칭에 사용할 수 있습니다.

2. C4F6은 오르가노메탈릭 막 형성 가스로 사용할 수 있습니다.

 

 

 

연락처 세부 사항
Vicky Liu

전화 번호 : 86-27-82653381

WhatsApp : +8613667126861