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제품 소개엑시머 레이저 가스

주문 Excimer 레이저는 193nm 석판인쇄술을 위한 아르곤 불화물 레이저를 가스를 발산합니다

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주문 Excimer 레이저는 193nm 석판인쇄술을 위한 아르곤 불화물 레이저를 가스를 발산합니다 협력 업체 주문 Excimer 레이저는 193nm 석판인쇄술을 위한 아르곤 불화물 레이저를 가스를 발산합니다 협력 업체

큰 이미지 :  주문 Excimer 레이저는 193nm 석판인쇄술을 위한 아르곤 불화물 레이저를 가스를 발산합니다

제품 상세 정보:

원래 장소: 중국
브랜드 이름: Newradar
인증: ISO/DOT/GB
모델 번호: 해당 없음

결제 및 배송 조건:

최소 주문 수량: 1PCS
가격: negotiation
포장 세부 사항: 포장된 in10L-50L 실린더 또는 수요에 따라 포장해.
배달 시간: 25 작업 일은 후에 당신의 지불금을 받았습니다
지불 조건: L/C, T/T, 서부 동맹, MoneyGram
공급 능력: 한달에 500 PC를
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상세 제품 설명
제품 이름: 아르곤 불화물 혼합물 충전 기체: 아르곤, 네온 및 불소 가스 혼합물
벨브 유형: CGA679 응용 프로그램: Excimer 레이저
실린더 양: 4-50L는 또는 주문을 받아서 만듭니다 충전물 압력: 1800-2000 Psig

주문 엑시머 레이저는 193nm 리소그래피 용 아르곤 불소 레이저 가스를 발생시킵니다.

기술:

아르곤 불소 혼합물은 일반적으로 불활성 가스 혼합물과 함께 193 nm 리소그래피 응용에 사용됩니다.

아르곤 불화물 레이저는 exciplex 레이저라고 불리는 특별한 형태의 엑시머 레이저입니다. 193 나노 미터 파장으로, 그것은 반도체 집적 회로, 눈 수술, 마이크로 머시닝 및 과학 연구의 생산에 일반적으로 사용되는 원 자외선 레이저입니다. 엑시머라는 용어는 "흥분된 이량 체"의 약자이며 exciplex는 "흥분된 복합체"의 약자입니다. 엑시머 레이저는 전형적으로 희귀 가스와 할로겐 가스의 혼합물을 사용하며, 적절한 조건의 전기 자극 및 고압 하에서 자외선 영역에서 코 히어 런트 (coherent) 자극 방사선을 방출한다.

ArF 엑시머 레이저는 마이크로 전자 칩 제조에 필요한 핵심 기술 중 하나 인 고해상도 포토 리소그래피 기계에 널리 사용됩니다. 엑시머 레이저 리소그래피는 트랜지스터 피처 크기를 1990 년 800 나노 미터에서 2012 년 22 나노 미터로 축소 할 수있게 해주었습니다.

명세서:

1. 물리적 특성

상품 아르곤 불화물 기체
분자식 ArF
단계 가스
색깔

무색

트랜스 포트에 대한 위험한 등급 2.2

2 . 일반적인 기술 데이터 (COA)

주요 구성 요소
구성 요소 집중 범위
플루오르 1.0 % 0.9-1.0 %
아르곤 3.5 % 3.4-3.6 %
네온 밸런스
막심 불순물
구성 요소 농도 (ppmv)
이산화탄소 (CO2) <5.0
일산화탄소 (CO) <1.0
카본 테트라 플루오 라이드 (CF4) <2.0
불화 탄소 (COF2) <2.0
헬륨 (He) <8.0
수분 (H2O) <25.0
질소 (N2) <25.0
삼 불화 질소 (NF3) <1.0
산소 (O2) <25.0
실리콘 테트라 플루오 라이드 (SiF4) <2.0
SF6 (Sulfur Hexafluoride) <1.0
THC (메탄으로서) (CH4) <1.0
크세논 (Xe) <10.0

3. 패키지

실린더 사양 내용 압력
실린더 밸브 출구 옵션 입방 피트 리터 PSIG
1 CGA679 DISS 728 265 7500 2000 년 139
2 CGA679 DISS 728 212 6000 2000 년 139
CGA679 DISS 728 71 2000 년 1800 년 125

응용 분야 :

아르곤 불소 혼합물은 일반적으로 불활성 가스 혼합물과 함께 193 nm 리소그래피 응용에 사용됩니다.

연락처 세부 사항
Wuhan Newradar Special Gas Co.,Ltd

담당자: Suyee Su

전화 번호: +8618602768623

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